拓荆科技内外因作用净利猛增超4倍推3.5折股权激励惠及76%员工

加速成长。

2月26日晚间，拓荆科技发布2022年度业绩快报，公司实现营业收入超17亿元，同比增加近10亿元。归属于上市公司股东的净利润为3.69亿元，同比增逾4倍。

2018年，公司营业收入仅为0.71亿元，2018年至2020年，公司连续三年亏损。2021年开始，营业收入和净利润均大幅增长。

拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务，拥有中芯国际、长江存储等知名企业客户。公司称，其与行业国际寡头直接竞争。

2022年，拓荆科技实施股权激励计划，520名员工参与，超过公司76%员工。这些员工3.5折买股票，但对应业绩考核要求不低，未来几年，公司净利润仍然需要保持倍增才能解锁。

二级市场上，上市以来，拓荆科技的股价累计上涨了约264.50%。

营收净利双双倍增

行业景气度高，拓荆科技经营业绩大幅增长。

根据业绩快报，2022年度，拓荆科技实现营业收入17.06亿元，较上年同期增加约9.48亿元，同比增长幅度为125.02%。公司实现的净利为3.69亿元，较上年同期增加约3亿元，同比增长438.09%。扣除非经常性损益的净利润为1.78亿元，上年同期为亏损，成功实现扭亏为盈。

去年三季报显示，公司实现营业收入9.92亿元、净利2.37亿元、扣非净利1.12亿元，同比分别增长165.19%、309.73%、584.88%，均为倍增。

对比发现，四季度，公司实现的营业收入、净利、扣非净利分别为7.14亿元、1.32亿元、0.66亿元，均较上年同期大幅增长。

针对2022年较为亮丽的经营业绩，拓荆科技解释称，受益于国内主要晶圆厂半导体设备需求增加，公司继续加大产品研发投入，产品结构不断优化，产品竞争力持续增强，并进一步拓展客户群体，销售订单大幅增加，营业收入维持高增长趋势。与此同时，公司期间费用率相对有所下降，规模效应驱动公司盈利水平提高。

这是拓荆科技取得的史上最好经营业绩。

拓荆科技的前身是沈阳拓荆科技有限公司，成立于2010年4月28日，2021年1月，公司完成股改。2022年4月20日，公司成功闯关IPO登陆上交所科创板。

单从经营业绩方面看，拓荆科技的增长较为迅猛。公开数据显示，2018年至2021年，公司实现的营业收入分别为0.71亿元、2.51亿元、4.36亿元、7.58亿元，2019年至2021年同比增长255.66%、73.38%、73.99%。前述同期，公司实现的净利分别为-1.03亿元、-0.19亿元、-0.11亿元、0.68亿元，2018年至2020年，亏损金额逐年减少，2021年实现扭亏为盈。扣非净利方面，2018年至2021年持续亏损，亏损金额分别为1.50亿元、0.62亿元、0.57亿元、0.82亿元。

2021年的扣非净利亏损扩大，主要是研发费用增加，当年的研发费用为2.88亿元，同比增长134.15%，增速高于当期营业收入增速。

对比发现，2022年的营业收入较2020年增长了约3倍。2022年，上市第一年，公司净利大幅增长、扣非净利正式扭亏为盈。

综合毛利率方面，2021年之前，在31%至34%之间，2021年上升至44.01%。2022年前三季度为48.32%，同比上升2.54个百分点。

半导体设备领域也是技术密集型行业，近几年，拓荆科技的研发投入持续增长。2019年至2021年，其研发投入分别为0.74亿元、1.23亿元、2.88亿元，2022年前三季度为2.21亿元，同比增长70%。

细分领域唯一产业化设备厂商

拓荆科技抓住了行业发展机遇，推动业绩高速增长。公司自我加压，力求未来继续保持业绩高速增长。

2022年，拓荆科技实现了限制性股权激励计划，涉及517名员工，约占公司2022年6月30日全部职工人数的76.37%。517名激励对象中，包括三名核心技术人员。517名员工将获授公司280万股限制性股票，约占公司总股本的2.21%。

此外，公司还实施了股票增值权激励计划，激励对象为董事长、总经理以及一名董事，三人均为公司核心技术人员，授予40万份股票增值权。

上述两份计划，授予价格相同，均为105元/股，为激励计划草案公布前1个交易日交易均价的34.83%，为激励计划草案公布前20个交易日交易均价的35.12%。因此，本次股权激励，相当于公司520名员工3.5折买股票。

从激励的员工数量看，接近80%员工，具有普惠性。

本次股权激励，设定的业绩考核要求并不低。考核年度为2022—2025四个会计年度，以公司2021年营业收入值及2021年净利润值为业绩基数，2022年至2025年，营业收入增长率为200%、300%、400%、500%。净利润增长率为270%、490%、700%、900%。

2021年，公司的营业收入、净利润分别为7.58亿元、0.68亿元，如果上述业绩达标，2025年，公司实现的营业收入、净利润分别为45.48亿元、6.80亿元。

2022年，拓荆科技已经超额完成了目标业绩。未来几年的目标业绩能否顺利达到，值得关注。

目前，全球半导体设备市场主要由国外厂商主导。近年来，中国企业加大投入力度，国产半导体设备实现了从无到有、从弱到强的质的飞跃，使中国半导体产业生态和制造体系得以不断完善。但中国半导体设备市场仍严重依赖进口，因此，能够实现进口替代的国内半导体设备厂商市场空间较大，并迎来巨大的成长机遇。

拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务，主要产品包括等离子体增强化学气相沉积设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个产品系列，已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线，打破国际厂商在高端半导体薄膜沉积设备领域对国内市场的垄断，与国际寡头直接竞争。

拓荆科技称，公司目前是国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD设备和SACVD设备厂商，也是国内领先的集成电路ALD设备厂商。

拓荆科技表示，公司专注于半导体薄膜沉积设备的研发，形成了一系列具有自主知识产权的核心技术，并达到国际先进水平。公司核心技术广泛应用于主营业务产品中，解决了半导体制造中纳米级厚度薄膜均匀一致性、薄膜表面颗粒数量少、快速成膜、设备产能稳定高速等关键难题，在保证实现薄膜工艺性能的同时，不仅提升客户产线的产能，还可减少客户产线的生产成本。